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NL-QMS磁控溅射纳米颗粒尺寸控制系统
四极杆质谱仪(Quadrupole Mass Spectrometer, QMS)在磁控溅射纳米颗粒尺寸控制中的应用主要体现在以下几个方面:
1. 实时监测与反馈:
o QMS能够实时监测纳米颗粒的尺寸分布,通过质量过滤器按质量或直径实时扫描或过滤沉积的纳米颗粒,从而促进生长条件的优化。
o 通过调整工艺参数,如磁控溅射电流、结露区长度和气体流量等,可以精确控制纳米颗粒的尺寸。
2. 精确控制纳米颗粒尺寸:
o 在1-20 nm范围内调整纳米颗粒的尺寸分布,这对于许多应用领域(如生物医学、电子材料等)至关重要。
o 例如,在银纳米团簇的制备中,通过调节溅射电流和氩气流量,可以获得平均粒径为2, 4和6 nm的银纳米团簇。
3. 工艺参数的优化:
o QMS可以与透射电子显微镜(TEM)等其他表征手段结合,对比在线和离线测量结果,确保纳米颗粒尺寸控制的准确性和一致性。
o 通过QMS的监测数据,可以优化工艺参数,如溅射电流、气体流量和结露区长度,以实现对纳米颗粒尺寸的精确控制。
4. 应用实例:
o 在等离子体气相凝聚技术中,QMS被用于在线测量银纳米团簇的粒径尺寸与分布,并与TEM离线测量值进行比对,验证了QMS在纳米颗粒尺寸控制中的有效性。
通过上述方法,NL-QMS能够有效地控制纳米颗粒的尺寸,满足不同应用领域对纳米颗粒尺寸的精确要求。
NL-QMS磁控溅射纳米颗粒尺寸控制系统技术规格
项目/源选项 | NL-D1 | NL-D2 | NL-D3 |
源输出 | 75W直流 | 100W直流 | 3×75W直流 |
溅射靶 | 1×1英寸 | 1×2英寸 | 3×1英寸 |
靶厚度 (mm) | 0.5-3 | 0.5-3 | 0.5-3 |
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