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NL-QMS磁控溅射纳米颗粒尺寸控制系统

简要描述:NL-QMS磁控溅射纳米颗粒尺寸控制系统能够实时监测纳米颗粒的尺寸分布,通过质量过滤器按质量或直径实时扫描或过滤沉积的纳米颗粒,从而促进生长条件的优化。

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  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2025-01-26
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详细介绍

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NL-QMS磁控溅射纳米颗粒尺寸控制系统

NL-QMS磁控溅射纳米颗粒尺寸控制系统


四极杆质谱仪(Quadrupole Mass Spectrometer, QMS在磁控溅射纳米颗粒尺寸控制中的应用主要体现在以下几个方面:

1.       实时监测与反馈

o    QMS能够实时监测纳米颗粒的尺寸分布,通过质量过滤器按质量或直径实时扫描或过滤沉积的纳米颗粒,从而促进生长条件的优化。

o    通过调整工艺参数,如磁控溅射电流、结露区长度和气体流量等,可以精确控制纳米颗粒的尺寸。

2.       精确控制纳米颗粒尺寸

o    1-20 nm范围内调整纳米颗粒的尺寸分布,这对于许多应用领域(如生物医学、电子材料等)至关重要。

o    例如,在银纳米团簇的制备中,通过调节溅射电流和氩气流量,可以获得平均粒径为2, 46 nm的银纳米团簇。

3.       工艺参数的优化

o    QMS可以与透射电子显微镜(TEM)等其他表征手段结合,对比在线和离线测量结果,确保纳米颗粒尺寸控制的准确性和一致性。

o    通过QMS的监测数据,可以优化工艺参数,如溅射电流、气体流量和结露区长度,以实现对纳米颗粒尺寸的精确控制。

4.       应用实例

o    在等离子体气相凝聚技术中,QMS被用于在线测量银纳米团簇的粒径尺寸与分布,并与TEM离线测量值进行比对,验证了QMS在纳米颗粒尺寸控制中的有效性。

通过上述方法,NL-QMS能够有效地控制纳米颗粒的尺寸,满足不同应用领域对纳米颗粒尺寸的精确要求。

 

 NL-QMS磁控溅射纳米颗粒尺寸控制系统技术规格

项目/源选项

NL-D1

NL-D2

NL-D3

源输出

75W直流

100W直流

3×75W直流

溅射靶

1×1英寸

1×2英寸

3×1英寸

靶厚度 (mm)

0.5-3

0.5-3

0.5-3

 


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