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Product CategoryNikalyte NL-50磁控溅射仪专为研究纳米粒子特性的研究人员设计,使用方便,结构紧凑。利用磁控溅射技术在真空中从固体源材料生成一束超纯纳米粒子,整个过程不使用任何化学品或表面活性剂
Evap-4 Power Supply电子束蒸发电压控制器用于电子束蒸发器,具有高效、紧凑的4通道,具备共蒸发能力。迷你电子束蒸发器能够在沉积常见工艺金属(如金、银和铬)时提供佳的控制力,并且与热舟源相比,对基底和周围环境的热负荷极小。
Mini E-Beam Evaporator小型电子束蒸发器是一种用于高精度薄膜沉积的edge-cutting工具。它适用于研究和生产环境,这种紧凑的系统利用电子束直接加热坩埚中的蒸发物,能够以的控制力沉积金属。与传统的热蒸发方法相比,Mini E-Beam Evaporator具有更高的效率,对基底的热负荷更低,并且能够同时共蒸发多种材料,使其成为各种涂层应用中多功能且可靠的解决方案。
Nikalyte NL-UHV磁控溅射仪能够在超真空中生成和沉积纳米颗粒,以在样品上创建功能化表面。 可以通过精确控制纳米颗粒的尺寸、组成和结构来定制纳米颗粒涂层的特性,从而实现定制化特性。
Nikalyte NL-UHV超高真空纳米颗粒沉积源允许将超纯纳米颗粒直接沉积在各种基底和材料上。可以调整膜的密度,并且涂层能够很好地附着在样品表面。 NL-UHV有多种配置可供选择,包括单个1英寸和2英寸源,以及三重1英寸源NL-DX3,后者允许单独或作为合金沉积多达三种材料。
NL-QMS磁控溅射纳米颗粒尺寸控制系统能够实时监测纳米颗粒的尺寸分布,通过质量过滤器按质量或直径实时扫描或过滤沉积的纳米颗粒,从而促进生长条件的优化。
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