Mini E-Beam Evaporator小型电子束蒸发器

Mini E-Beam Evaporator小型电子束蒸发器是一种用于高精度薄膜沉积的edge-cutting工具。它适用于研究和生产环境，这种紧凑的系统利用电子束直接加热坩埚中的蒸发物，能够以的控制力沉积金属。与传统的热蒸发方法相比，Mini E-Beam Evaporator具有更高的效率，对基底的热负荷更低，并且能够同时共蒸发多种材料，使其成为各种涂层应用中多功能且可靠的解决方案。

Evap-4兼容超高真空（UHV），可以单独提供，也可以与Nikalyte定制的任何PVD系统集成。

关键特性：

·         最多可共蒸发4种材料

·         紧凑的源设计

·         对基底的热负荷低

·         集成4通道电源

·         用于速率监测的通量测量

·         兼容超高真空

·         可烘烤至250°C

·         包括手动或气动控制快门的选择

·         可定制的真空内长度

Mini E-Beam Evaporator小型电子束蒸发器规格：

·         安装法兰：NWCF63

·         真空内长度：标准300毫米（可定制长度）

·         真空内直径：57毫米

·         坩埚体积：1000毫米³（1立方厘米）

·         坩埚材料：钼（Mo）、钨（W）、石墨（Gr）

·         坩埚衬里：氧化铝（Al₂O₃）、氮化硼（PBN）

·         超高真空兼容性：是，可烘烤至250摄氏度

·         冷却液流量：Min.1.0升/分钟

·         功率：单相100-240伏交流电，50/60赫兹

·         快门：内置手动或可选气动操作