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Nikalyte NL-Cube物理气相沉积系统

简要描述:Nikalyte NL-Cube物理气相沉积系统是一个紧凑且灵活的PVD(物理气相沉积)系统,具备薄膜、纳米颗粒和合金沉积能力。该系统有两种型号:375型(最多可容纳五个源,基底直径可达四英寸)和300型(最多可容纳四个源,基底直径可达两英寸)。由于其体积相对较小,真空腔体的抽真空速度较快,周转时间约为30分钟。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2025-01-26
  • 访  问  量:120

详细介绍

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Nikalyte NL-Cube物理气相沉积系统是一个紧凑且灵活的PVD(物理气相沉积)系统,具备薄膜、纳米颗粒和合金沉积能力。该系统有两种型号:375型(最多可容纳五个源,基底直径可达四英寸)和300型(最多可容纳四个源,基底直径可达两英寸)。由于其体积相对较小,真空腔体的抽真空速度较快,周转时间约为30分钟。

Nikalyte NL-Cube物理气相沉积系统


Nikalyte NL-Cube物理气相沉积系统可兼容多种源,包括磁控溅射源、纳米颗粒源、小型电子束源、热舟源以及原子和离子源。系统可以配置为向上溅射或向下溅射模式。此外,还提供基底旋转、偏压以及最高可达800的加热选项。

真空腔体在英国制造,采用高质量的304不锈钢材质,并配有轻质铝制门。它安装在一个系统机架上,该机架包含控制系统、电源和真空泵。整个系统配备轮子以便移动,并在定位后可锁定脚部以固定位置。

集成的PC和多功能Spectrum软件提供了无缝的用户体验,使客户能够远程控制该系统并运行复杂的工艺配方。

Nikalyte NL-Cube物理气相沉积系统


 

关键特性:

·         可用的源包括磁控溅射源、纳米粒子源、小型电子束源、热舟蒸发源、原子源和离子源。

·         提供向上溅射或向下溅射配置。

·         提供旋转、偏压以及高达800℃的加热选项。

·         周转时间约为45分钟。

·         真空度可达5×10⁻⁷托。

·         系统机架包含控制系统、电源和泵。

·         集成的个人电脑配备Spectrum软件,可实现自动化过程控制、复杂配方和数据记录。

 

The Cube系统配置:

项目

Cube    300

Cube    375

沉积腔尺寸

300×300×300   mm

375×375×375   mm

基础真空度

<1×10⁻⁶

<5×10⁻⁷

溅射方向

向下溅射/向上溅射

向下溅射/向上溅射

样品台

2英寸晶圆,20/分钟旋转,射频/直流偏压和加热至400℃

4英寸晶圆,20/分钟旋转,射频/直流偏压和加热至800℃

抽真空系统

80/秒涡轮分子泵配7.2立方米/小时干式前级泵

300/秒涡轮分子泵配7.2立方米/小时干式前级泵

阀门

手动/自动阀门、快门、直线驱动和抽真空挡板阀

手动/自动阀门、快门、直线驱动和抽真空挡板阀

控制软件

配方驱动过程、电源控制和数据记录

配方驱动过程、电源控制和数据记录

原位监测

石英晶体微量天平用于过程监测和终点检测

石英晶体微量天平用于过程监测和终点检测

源端口

最多4个沉积源

最多5个沉积源

源类型

纳米粒子源、磁控溅射源、小型电子束蒸发源、热舟蒸发源、K型离子源、射频原子源

纳米粒子源、磁控溅射源、小型电子束蒸发源、热舟蒸发源、K型离子源、射频原子源

涂层均匀性

±2%(样品旋转时)

 


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