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Nikalyte NL-FLEX物理气相沉积系统是一款超多功能的PVD(物理气相沉积)系统,能够生成纳米颗粒和薄膜,非常适合工业和学术研究。NL-FLEX可以容纳各种类型的基底,包括卷对卷、非平面和粉末涂层。它适用于广泛的应用领域,包括催化、光子学、能量存储、传感器和生命科学。这种模块化的PVD沉积系统可以与分析工具集成,为您提供定制化的研究解决方案。
主要特点:
· 通过结合纳米颗粒和薄膜生成复杂材料。
· 使用NL-UHV技术生产无烃纳米颗粒。
· 空间宽敞且易于进入的真空腔,非常适合处理精细和复杂的基底。
· 可选择向上或向下配置的源。
· 兼容第三方源。
· 提供旋转、加热和偏置选项,用于三维物体的涂层。
· 自动化且由配方驱动的软件。
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基础系统配置:
· 沉积腔尺寸:450 mm × 450 mm × 450 mm
· 基础真空度:< 5×10⁻⁷托
· 溅射方向:向下溅射
· 样品台:4英寸晶圆,20转/分钟旋转
· 抽真空系统:700升/秒涡轮分子泵,配备7.2立方米/小时干式前级泵
· 阀门:手动阀门、快门和线性驱动装置
· 控制软件:配方驱动的工艺控制、电源控制和数据记录
· 原位监测:石英晶体微量天平用于工艺监测和终点检测
· 源端口:最多可连接6个沉积源
· 源类型:纳米颗粒源、磁控溅射源、小型电子束蒸发源、热舟源、K型离子源、射频原子源
Nikalyte NL-FLEX物理气相沉积系统可选配置:
· 可拆卸的沉积屏蔽装置
· 向上配置的源几何结构
· 样品台选项:
o 直流偏置用于纳米颗粒加速
o 射频偏置用于样品表面清洁
o 加热至800℃
· 阀门、快门和线性驱动装置的自动化选项
· 涡轮泵前的可调挡板,用于在较低气体流量下增加溅射的动态压力范围
· 单独抽真空的装卸锁和传输臂
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